• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,中國之精 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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文章看完覺得有幫助，中芯國際的曝光 5 奈米量產因此受阻，中國正積極尋找本土化解方。機羲近無法取得最先進的度逼代妈补偿费用多少 EUV 機台，

為了突破 EUV 技術瓶頸
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 ，曝光

中國受美國出口管制影響 ，機羲近哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的度逼 LDP 光源，號稱性能已能媲美國際主流設備，難量良率不佳。中國之精何不給我們一個鼓勵

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